निरन्तर लेजर सफाई मेसिन

CW लेजर क्लिनिङ मेसिनको प्रयोग सिद्धान्त फोटोथर्मल प्रभाव र फोटोमेकानिकल प्रभावमा आधारित छ: उच्च-ऊर्जा-घनत्व निरन्तर लेजर किरणले वर्कपीसको सतहलाई विकिरण गर्छ, र सतहका दूषित पदार्थहरू (जस्तै खिया, तेल, कोटिंग) ले तुरुन्तै ऊर्जा अवशोषित गर्छ, जसले गर्दा तापक्रम, वाष्पीकरण वा प्रत्यक्ष पिलिंगमा द्रुत वृद्धि हुन्छ, जबकि आधार सामग्री यसको कम अवशोषण दर वा छिटो थर्मल चालकताको कारण अक्षुण्ण रहन्छ, यसरी उच्च-परिशुद्धता, सम्पर्कविहीन "चिसो सफाई" प्राप्त हुन्छ।